Вакуумные электронно-ионно-плазменные установки (ВЭИПС-1, ВЭИПС-2) с источниками газовой и металлической плазмы
Установки типа ВЭИПС разработаны и созданы в рамках выполнения мероприятий плана-графика Соглашения № 075-15-2021-1348 от 5 октября 2021 г. Установки оснащены источниками газовой и металлической плазмы, электронных пучков и предназначены для разработки и апробации методик in situ исследований процессов формирования слоев на поверхности материалов с использованием синхротронного излучения (ВЭИПС-1, находится на станции №6 СИ ВЭПП-3 (СЦCТИ ИЯФ СО РАН, г. Новосибирск)) и рентгеновской трубки (ВЭИПС-2, находится в НИЦ ТЦК ИСЭ СО РАН).
