БУГАЕВ Алексей Сергеевич

должность: научный сотрудник
ученая степень: кандидат физико-математических наук (2001 г.)
e-mail: bugaev@opee.hcei.tsc.ru

Образование Томский государственный университет (1987 г.)
Научные интересы Электронная и ионная эмиссия из плазмы, методы экспериментальных исследований параметров плазмы (зондовые методы, время-пролетная и магнитная масспектрометрия), газоразрядные и дуговые генераторы эмиссионной плазмы, плазменные источники электронов, плазмоптика.
Учёная степень кандидат физико-математических наук, 2001 г.
Гранты РФФИ 18-08-00113-a – Генерация низкотемпературной плазмы в аксиально-симметричном плазменном ускорителе с замкнутым дрейфом электронов, руководитель (2018-2019)
ORCID ID 0000-0002-7406-6235

Список публикаций в журналах входящих в первый квартиль (Q1 по импакт-фактору JCR Science Edition на момент публикования) за последние 10 лет

  1. V.I. Gushenets, A.S. Bugaev, E.M. Oks, Suppression of high-frequency electron beam modulation in a plasma-filled diode// IEEE Transactions on Plasma Science. 2021. V. 49. № 9. P. 2554-2558; https://doi.org/10.1109/TPS.2021.3089008
  2. V.I. Gushenets, A.S. Bugaev, E.M. Oks, Boron vacuum-arc ion source with LaB6 cathode // Review of Scientific Instruments 90, 113309 (2019); https://doi.org/10.1063/1.5127096
  3. V.I. Gushenets, A.S. Bugaev, E.M. Oks, Ion source based on a circular anode layer plasma thruster // Review of Scientific Instruments 90, 113310 (2019); https://doi.org/10.1063/1.5127095
  4. Goncharov A.A., Dobrovolskiy A.M., Naiko I.V., Bazhenov V.Y., Bugaev A.S., Gushenets V.I., Litovko I.V., Oks E.M., Recent progress in development new generation erosion plasma sources // IEEE Transactions on Plasma Science. 2019. V. 47. № 8. P. 3594-3600; https://doi.org/10.1109/TPS.2019.2915644
  5. Bugaev, A., Goncharov, A., Gushenets, V., Dobrovolskiy, A., & Oks, E., Enhanced Electric Breakdown Strength in an Electron-Optical System // Proc. of 28th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum (ISDEIV). 2018, V. 1, P. 35-38; https://doi.org/10.1109/deiv.2018.8537049
  6. Gushenets V.I., Bugaev A.S., Oks E.M., Hershcovitch A., Kulevoy T.V., Molecular phosphorus ion source for semiconductor technology // Review of Scientific Instruments. 2012. V. 83. № 2. P. 02B311; https://doi.org/10.1063/1.3672112
  7. V. I. Gushenets, A. S. Bugaev, E. M. Oks, P. M. Schanin and A. A. Goncharov, Self-heated hollow cathode discharge system for charged particle sources and plasma generators // Review of Scientific Instruments 81, 02B305 (2010); https://doi.org/10.1063/1.3258033
  8. A.S. Bugaev, V.I. Gushenets, E.M. Oks and A.A. Goncharov, Plasma electron source for space charge lens testing // Proc. Of 16th Int. Symp. On High Current Electronics. Tomsk. Russia. – 2010. – P. 99-101; https://www.hcei.tsc.ru/conf/2010/cat/proc_2010/shce/099-101.pdf
  9. V. I. Gushenets, A. S. Bugaev, E. M. Oks, T. V. Kulevoy, A. Hershcovitch and I. G. Brown, Experimental comparison of time-of-flight mass analysis with magnetic mass analysis, Review of Scientific Instruments 79, 02B701 (2008); https://doi.org/10.1063/1.2802593 discharges // Vacuum 77 (2005) 391–398; https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2004.07.067
  10. A.S. Bugaev, A.V. Vizir, V.I. Gushenets, A.G. Nikolaev, E.M. Oks, G.Yu. Yushkov, Yu.A. Burachevsky, V.A. Burdovitsin, I.V. Osipov and N.G. Rempe, Current status of plasma emission electronics: II. Hardware // Laser and Particle Beams / Volume 21 / Issue 02 / April 2003, pp 139 156; https://doi.org/10.1017/S0263034603212039
  11. Alexey Bugaev, Vasily Gushenets, George Yushkov, Efim Oks, Timur Kulevoy, Ady Hershcovitch and Brant M. Johnson, Electron-beam enhancement of ion charge state fractions in the metal-vapor vacuum-arc ion source // Appl. Phys. Lett. 79, 919 (2001); https://doi.org/10.1063/1.1392969
  12. A.S. Bugaev;V.I. Gushenets;Yu.A. Khuzeev;E.M. Oks;G.Yu. Yushkov, High-density plasma low energy electron gun based on vacuum arc in a strong magnetic field // Proc. of 19th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, 2000. V. 2. P. 629-632; https://doi.org/10.1109/DEIV.2000.879068