ОКС Ефим Михайлович

должность: Заведующий лабораторией
ученая степень: доктор технических наук
e-mail: oks@opee.hcei.tsc.ru
Тел.: (3822) 49-17-76

Образование Томский институт автоматизированных систем управления и радиоэлектроники, инженер-электронной техники, специальность «электронные приборы», диплом с отличием 1978 г.
Научные интересы вакуумный дуговой разряд, разряд низкого давления, эмиссия электронов и ионов из плазмы, плазменные источники электронов, источники ионов, генераторы низкотемпературной плазмы, магнетронные распылительные системы, электронно-лучевые технологии, ионно-плазменные технологии.
Учёная степень доктор технических наук, 1994 г.,
кандидат физико-математических наук, 1986 г.
Учёное звание Профессор по кафедре «физики», 1997 г.
РИНЦ Author ID 18767
WoS Researcher ID AAJ-2958-2020
Scopus Author ID 15019732300
ORCID 0000-0002-9323-0686
Индекс Хирша в изданиях, индексируемых:
РИНЦ 40
Web of Science: 30
Scopus 32
Опыт руководства научными проектами за последние 10 лет
  • РНФ 21-19-00136 Мощная магнетронная система в режиме самораспыления с внешней инжекцией электронов. 2021-2023
  • РНФ18-19-00069 Вакуумный дуговой разряд с композитными и газонасыщенными катодами: физические процессы и применения. 2018-2020
  • РНФ 14-19-00083 Вакуумный дуговой разряд с многокомпонентными катодами для сильноточных коммутаторов и ионно-плазменных технологических устройств. 2014-2016
  • РФФИ 20-08-00123 А Генерация низкоэнергетичного импульсного электронного пучка форвакуумным плазменным источником электронов на основе дугового контрагированного разряда. 2020-2022
  • РФФИ.19-48-700004 р_а Генерация стационарных мощных низкоэнергетичных электронных пучков форвакуумными плазменными источниками для высокотемпературной электронно-лучевой обработки диэлектриков и других материалов. 2019-2022
  • РФФИ 18-29-11011 мк Электронно-лучевое нанесение теплопроводящих керамических покрытий для устройств микроэлектроники 2018-2020
  • РФФИ 18-58-00004 Бел_а Исследование процессов формирования износостойких структур методами реактивного ионно-плазменного нанесения и форвакуумного электронно-лучевого испарения для реализации дуплексных процессов 2018-2019
  • РФФИ 17-08-00239 А Генерация форвакуумным плазменным источником электронов сфокусированных непрерывных и импульсных электронных пучков для прецизионной обработки диэлектрических материалов. 2017-2019
  • РФФИ 16-48-700487 р_а Формирование квазинепрерывных широкоапертурных электронных пучков форвакуумными плазменными источниками на основе дугового разряда для моноимпульсной модификации материалов 2016-2018
  • РФФИ 14-08-00047 А Формирование низкоэнергетичных широкоапертурных электронных пучков в системах с плазменными катодами при повышенных давлениях. 2014-2016
Участие в образовательной деятельности
  • Лекционный курс физика в ТУСУР
  • Лекционный курс «Plasma electronics”
  • Научный руководитель 16 кандидатов наук
  • Научный консультант 8 докторов наук
  • Зам. председателя диссертационного совета 24.2.415.03 (ТУСУР)
  • Член диссертационных советов 24.1.115.02(ИСЭ СО РАН), 24.1.162.01(ИЯФ СО РАН)
  • Зам председателя комиссии по приему кандидатских экзаменов (ИСЭ СО РАН)
Участие в экспертной деятельности и рецензировании
  • Эксперт РАН, РНФ и РФФИ
  • Член ученых советов ИСЭ СО РАН и ТУСУР
  • Рецензирование научных статей в журналах: Журнал технической физики, Журнал экспериментальной и технической физики, Журнал прикладной физики, Physics of Plasmas, Plasma Sources Science and Technology, Review of Scientific Instruments, IEEE Transactions on Plasma Science, Applied Physics и др.
Награды и победы в конкурсах различного уровня (ордена, медали, премии, грамоты, благодарности и т.д., в том числе за лучшие доклады и т.д.)
  • Премии Правительства Российской Федерации в области науки и техники для молодых ученых 2019 (руководитель молодежного коллектива)
  • Профессор года Томской области (дважды)
  • Нагрудный знак «Почетный профессор Томского профессорского собрания»
  • Лауреат премии Томской области в области науки и образования (трижды)
  • Ведомственные и региональные медали, почетные грамоты и благодарности
Количество публикаций за период научной деятельности около 600
в том числе статей в индексируемых изданиях около 350
в том числе в изданиях, входящих в первый квартиль (Q1) по импакт-фактору JCR Science Edition около 100
Число патентов и других РИД 40

Список публикаций, на которые получено более 100 ссылок

  1. Ion velocities in vacuum arc plasmas /GY Yushkov, A Anders, EM Oks, IG Brown //Journal of Applied Physics 88 (10), 5618-5622 (2000)
  2. Ion charge state distributions in high current vacuum arc plasmas in a magnetic field /EM Oks, A Anders, IG Brown, MR Dickinson, RA MacGill// IEEE Transactions on Plasma Science 24 (3), 1174-1183 (1996)
  3. Plasma cathode electron sources: physics, technology, applications /E Oks// John Wiley & Sons (2006)
  4. Fore-vacuum plasma-cathode electron sources // VA Burdovitsin, EM Oks// Laser and particle beams 26 (4), 619-635 (2008)
  5. Elevated ion charge states in vacuum arc plasmas in a magnetic field/EM Oks, IG Brown, MR Dickinson, RA MacGill, H Emig, P Spädtke //Applied physics letters 67 (2), 200-202 (1995)
  6. Upgraded vacuum arc ion source for metal ion implantation /AG Nikolaev, EM Oks, KP Savkin, GY Yushkov, IG Brown//Review of scientific instruments 83 (2), 02A501 (2012)
  7. Simple and inexpensive time-of-flight charge-to-mass analyzer for ion beam source characterization / VI Gushenets, AG Nikolaev, EM Oks, LG Vintizenko, GY Yushkov // Review of scientific instruments 77 (6), 063301 (2006)
  8. Development of plasma cathode electron guns / EM Oks, PM Schanin //Physics of Plasmas 6 (5), 1649-1654 (1999)