ВИЗИРЬ Алексей Вадимович

должность: ведущий научный сотрудник
ученая степень: доктор технических наук
e-mail: vizir@opee.hcei.tsc.ru

Образование Томский политехнический институт, инженер-физик, специальность «экспериментальная ядерная физика и физика плазмы», 1994 г.
Научные интересы Разряды низкого давления, магнетронный разряд, вакуумная дуга, ионные пучки, тлеющие разряды с инжекцией электронов, эмиссионные методы исследования плазмы, применение низкотемпературной плазмы и ионных пучков для задач науки и практики.
Учёная степень доктор технических наук, 2012 г.,
кандидат технических наук, 2000 г.
РИНЦ Author ID 162576
WoS ResearcherID R-2139-2016
Scopus Author ID 7004053041
ORCID 0000-0002-9563-8650
Индекс Хирша в изданиях, индексируемых РИНЦ 11
Опыт руководства научными проектами за последние 10 лет
  • РФФИ 13-08-00185 А, " Генерация плазмы и пучков ионов с высоким содержанием бора на основе магнетронного разряда в режиме самораспыления.", 2013-2015
  • РФФИ 16-08-00484, " Генерация ионов водорода H3+ в отражательном разряде с полым катодом", 2016-2018
  • РФФИ 19-48-700008, " Магнетронное распыление в вакууме для нанесения сверхчистых металлических покрытий", 2019-2021
Участие в экспертной деятельности и рецензировании Эксперт РФФИ
Количество публикаций за период научной деятельности около 100
в том числе статей в индексируемых изданиях около 90
Число патентов и других РИД 4

Список публикаций в журналах входящих в первый квартиль
(Q1 по импакт-фактору JCR Science Edition на момент публикования) за последние 10 лет

  1. Vizir A.V., Oks E.M., Shandrikov M.V., Yushkov G.Yu. Parameters and properties of a pulsed planar vacuum magnetron discharge // Vacuum, 2020, V. 178, p. 109400 (1-5)
  2. Shandrikov M.V., Bugaev A.S., Oks E.M., Ostanin A.G., Vizir A.V., Yushkov G.Y. Effect of electron injection on the parameters of a pulsed planar magnetron // Vacuum, 2019, V. 159, p. 200-203
  3. Vizir A.V., Oks E.M., Shandrikov M.V., Yushkov G.Yu. Triatomic hydrogen ion generation in a low-pressure gas discharge // Vacuum, 2019, V. 162, p. 63-66
  4. M.V. Shandrikov, A.S. Bugaev, E.M. Oks, A.V. Vizir, G.Yu. Yushkov, Ion mass-to-charge ratio in planar magnetron plasma with electron injections // Journal of Phys. D-Applied Phys. v. 51, no. 41, 2018, 415201 (1-8)
  5. A.G. Nikolaev, E.M. Oks, A.V. Vizir, G.Yu. Yushkov, V.P. Frolova Boron ion beam generation utilizing lanthanum hexaboride cathodes: Comparison of vacuum arc and planar magnetron glow // Rev. Sci. Instrum., 2016, V. 87, No. 2, p. 02A902 (1-3)
  6. A. Hershcovitch, V.I. Gushenets, D.N. Seleznev, A.S. Bugaev, S. Dugin, E.M. Oks, T.V. Kulevoy, O. Alexeyenko, A. Kozlov, G.N. Kropachev, R.P. Kuibeda, S. Minaev, A. Vizir, and G.Yu. Yushkov Molecular ion sources for low energy semiconductor ion implantation (invited) // Rev. Sci. Instrum., 2016
  7. Aleksey Vizir, Aleksey Nikolaev, Efim Oks, Konstantin Savkin, Maxim Shandrikov and Georgy Yushkov Boron ion beam generation using a self-sputtering planar magnetron // Review of Scientific Instruments, 2014, V. 85, No 2, p. 02C302 (1-3)
  8. Inverted time-of-flight spectrometer for mass-to-charge analysis of plasma / VI Gushenets, Yu A Burachevsky, A.V. Vizir, E.M. Oks, K.P. Savkin, A.V. Tynkov, G.Yu. Yushkov //Rev. Sci. Instrum 85 (2), 02A738-3 (2014)
  9. A.G. Nikolaev, E.M. Oks, K.P. Savkin, G.Yu. Yushkov, V.P. Frolova, and  S.A. Barengolts. Charge state, angular distribution and kinetic energy of ions from multicomponent-cathodes in vacuum arc devices // Journal of Applied Physics, 2014, V. 116, p. 213303 (1-8)