Напряжение разряда | 120—150 В |
Ток разряда | регулируемый 20—1000 мА |
Режим функционирования | импульсный, непрерывный |
Форма импульса | квазипрямоугольный |
Частота следования импульсов | регулируемая 20—100 кГц |
Коэффициент заполнения периода | 0.1—0.8 |
Расстояние «катод-анод» | регулируемое 5—15 мм |
Рабочий газ | Аргон, гелий, азот |
Расход газа | 1000 sccm |
Материалы катода | Магний, цинк, индий |
Устройство предназначено для генерации потоков плазмы, содержащей металлический компонент для получения ультрадисперсных порошков и функциональных покрытий при атмосферном давлении.
Разрядная система источника плазмы образована двумя коаксиальными электродами, центральным – катодом и, окружающим его цилиндрическим анодом. Рабочая часть катода, направленная в сторону отверстия в аноде, имеет эродируемые вставки из легкоплавких металлов. При функционировании разряда происходит нагревание катода – тигля до температуры плавления катодной вставки. В результате на рабочей поверхности катода формируется выпуклый жидкометаллический мениск. С его поверхности потоком рабочего газа срываются атомы расплавленного металла. Таким образом формируется поток газометаллической плазмы, который выносится за пределы разрядной системы через отверстие в аноде. Возбужденные частицы металлов, транспортируемые в этом потоке, остывают, окисляются в результате смешивания экстрагируемого газометаллического потока с воздухом, слипаются в агломераты, формируя частицы с размерами от нескольких единиц до нескольких десятков нанометров. При конденсации данных частиц происходит формирование покрытий на металлах и диэлектриках со скоростью несколько десятков микрометров в минуту.