Фирма-изготовитель: Лаборатория плазменной эмиссионной электроники ИСЭ СО РАН
Страна происхождения: Россия
Год выпуска: 2008
Назначение, краткая характеристика
Вакуумная ионно-плазменная установка «ТРИО» использует три уникальных плазмогенератора для синтеза газовой и металлической плотной плазмы, используемой для модификации поверхности материалов и изделий. Для генерации объёмной газовой плазмы используется плазменный источник с накалённым катодом «ПИНК», также разработанный в ИСЭ СО РАН.
Основные характеристики
| Размеры установки | 2100×1600×2120 мм |
| Размеры вакуумной камеры | 600×600×600 мм |
| Скорость нанесения покрытий | до 5 мкм/ч |
| Потребляемая мощность | до 40 кВт |
| Давление | 0.05–1 Па |
| Расход воды для охлаждения | 2 м3/ч |
Возможности и особенности
- возможность работы на смеси двух газов;
- возможность проведения комплексных процессов обработки, включающих ионную очистку, диффузионное насыщение и напыление покрытий
- возможность одновременного создания газовой и металлической плазмы в одном вакуумном объеме;
- широкий диапазон параметров;
- независимая регулировка основных параметров;
- нанесение твердых и сверхтвердых покрытий с регулируемой in situ стехиометрией;
- повышение коррозионной стойкости и износостойкости поверхности изделий;
- возможность одновременного или поочередного использования двух материалов катода;
- возможность использования композиционных катодов;
- обработка изделий сложной формы;
- глубина обработки до 500 мкм;
- нет специальных требований по размещению установки (низкая величина ускоряющего напряжения, не требуется дополнительная радиационная защита);
- использование манипулятора позволяет обрабатывать образцы с большой площадью поверхности или партию мелкоразмерных образцов или изделий.
Контактная информация
Институт сильноточной электроники СО РАН, (ИСЭ СО РАН)
634055, г. Томск, пр. Академический 2/3
Заведующий лабораторией
плазменной эмиссионной электроники
АХМАДЕЕВ Юрий Халяфович
ahmadeev@opee.hcei.tsc.ru
+8 3822 491713
+7 923 408 6284
